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DOSE RATE EFFECTS ON DAMAGE FORMATION IN ION-IMPLANTED GALLIUM ARSENIDE / HAYNES,T.E.//HOLLAND,O.W.(OAK RIDGE NATIONAL LAB.,TN(USA))
(CONF ; CONF-900936-9)
| データ種別 | レポート |
|---|---|
| 出版年 | 1990 |
| 本文言語 | 英語 |
| 大きさ | 14 |
| レポート番号 | CONF-900936-9 |
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| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 登録番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 刷 年 | 利用注記 | 予約 | 複写取寄 | 指定図書 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| (東海)新館2Fマイクロ室(マイクロフィッシュ) |
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R0676175 |
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禁帯出 |
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書誌詳細を非表示
| 著者標目 | HAYNES,T.E. HOLLAND,O.W.(OAK RIDGE NATIONAL LAB.,TN(USA)) |
|---|---|
| 書誌ID | 1000710240 |
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