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PLASMA DIAGNOSTIC STUDIES OF THE INFLUENCE OF PROCESS VARIABLES UPON THE ATOMIC AND MOLECULAR SPECIES EJECTED FROM (1-X)LI/SUB 4/SIO/SUB 4/: XLI/SUB 3/PO/SUB 4/TARGETS DURING RF-MAGNETRON SPUTTERING / WACHS, A.L.// BATES, J.B.// DUDNEY, N.J.// LUCK, C.F. (OAK RIDGE NATIONAL LAB., TN (USA))
(CONF ; CONF-901035-11)

データ種別 レポート
出版年 1990
本文言語 英語
大きさ 18
レポート番号 CONF-901035-11

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(東海)新館2Fマイクロ室(マイクロフィッシュ)

R0668630


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