OPAC

(n, γ)法による/sup 99/Mo//sup 99m/Tc製造用照射ターゲットの製造技術開発と特性評価 / 西方香緒里 [ほか]
(JAEA-Technology ; 2014-034)

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別書名	Fabrication technology development and characterization of irradiation targets for /sup 99/Mo//sup 99m/Tc production by (n, γ) method
著者標目	西方, 香緒里 <ニシカタ, カオリ> 木村, 明博 <キムラ, アキヒロ> 石田, 卓也 <イシダ, タクヤ> 椎名, 孝行 <シイナ, タカユキ> 太田, 朗生 <Ota, Akio> 棚瀬, 正和 <タナセ, マサカズ> 土谷, 邦彦 <ツチヤ, クニヒコ>
書誌ID	1000986516
URL1	https://doi.org/10.11484/jaea-technology-2014-034