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エチルトリクロロシランを用いたCVD-SiCの熱力学計算 / 中野 純一//山田 禮司
(JAERI-Research ; 95-045)

データ種別 レポート
出版者 : 日本原子力研究所
出版年 1995
本文言語 日本語
大きさ 26
レポート番号 JAERI-RESEARCH-95-045

所蔵情報を非表示

(東海)旧館2F閲覧室(レポート)

3300212218




書誌詳細を非表示

別書名 Thermodynamic calculations for chemical vapor deposition of silicon carbide using ehyltrichlorosilane
著者標目 中野, 純一 <ナカノ, ジュンイチ>
山田, 禮司 <ヤマダ, レイジ>
書誌ID 1000998873
URL1 https://doi.org/10.11484/jaeri-research-95-045