HTTRによる高温高性能半導体の製造の有用性についての検討 / 柴田 大受
(JAERI-Review ; 95-005)
データ種別 | レポート |
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出版者 | : 日本原子力研究所(ニホン ゲンシリョク ケンキュウショ) |
出版年 | 1995 |
本文言語 | 日本語 |
大きさ | 91 |
レポート番号 | JAERI-REVIEW-95-005 |
所蔵情報を非表示
配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 登録番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 刷 年 | 利用注記 | 予約 | 複写取寄 | 指定図書 |
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(東海)新館2Fマイクロ室(マイクロフィッシュ) |
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R0904099 |
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禁帯出 |
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書誌詳細を非表示
別書名 | Feasibility study on potential productivity of heat-resisting and advanced semiconductors by using the HTTR |
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著者標目 | 柴田, 大受 <シバタ, タイジュ> |
書誌ID | 1000999705 |
URL1 | https://jopss.jaea.go.jp/search/servlet/search?2076514 |
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