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HTTRによる高温高性能半導体の製造の有用性についての検討 / 柴田 大受
(JAERI-Review ; 95-005)

データ種別 レポート
出版者 : 日本原子力研究所(ニホン ゲンシリョク ケンキュウショ)
出版年 1995
本文言語 日本語
大きさ 91
レポート番号 JAERI-REVIEW-95-005

所蔵情報を非表示

(東海)新館2Fマイクロ室(マイクロフィッシュ)

R0904099


禁帯出

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別書名 Feasibility study on potential productivity of heat-resisting and advanced semiconductors by using the HTTR
著者標目 柴田, 大受 <シバタ, タイジュ>
書誌ID 1000999705
URL1 https://jopss.jaea.go.jp/search/servlet/search?2076514

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