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超高真空中におけるSi(001)表面へのCH/sub 3/Clの化学吸着 / 今中 壮一 [ほか]
(JAERI-Tech ; 2003-066)

データ種別 レポート
出版者 : 日本原子力研究所
出版年 2003
本文言語 日本語
大きさ 36 p.
レポート番号 JAERI-TECH-2003-066

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(東海)旧館2F閲覧室(レポート)

3300388638




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別書名 Chemisorption of CH/sub 3/Cl on Si(001) surface under UHV condition
著者標目 今中, 壮一 <イマナカ, ソウイチ>
岡田, 美智雄 <オカダ, ミチオ>
笠井, 俊夫 <カサイ, トシオ>
寺岡, 有殿 <テラオカ, ユウデン>
吉越, 章隆 <ヨシゴエ, アキタカ>
書誌ID 1001000237
URL1 https://doi.org/10.11484/jaeri-tech-2003-066