Mendeley出力
Rapid thermal annealing of oxygen-vacancy centers in O-implanted silicon / Stein, H.J.
(Sandia report ; SAND-86-2644C; CONF-870438-12; DE87008645)
| データ種別 | レポート |
|---|---|
| 出版者 | Albuquerque, NM (USA) : Sandia National Labs. |
| 出版年 | 1987.01 |
| 本文言語 | 英語 |
| 大きさ | 6p |
| レポート番号 | SAND-86-2644C; CONF-870438-12; DE87008645 |
所蔵情報を非表示
| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 登録番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 刷 年 | 利用注記 | 予約 | 複写取寄 | 指定図書 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| (東海)新館2Fマイクロ室(マイクロフィッシュ) |
|
R2131001110 |
|
|
|
禁帯出 |
|
書誌詳細を非表示
| 著者標目 | Stein, H.J. |
|---|---|
| 書誌ID | 1001399714 |
この資料の利用統計
全貸出数：0回
(1年以内の貸出：0回)