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検索キーワード:(著者名に左の語を含む: #HEATHERLY,L.)
該当件数:9件
PROCESSING, MICROSTRUCTURE, AND PROPERTIES OF MULTIPHASE MO SILICIDE ALLOYS. / HEATHERLY, L.(et al.)
: Oak Ridge National Laboratory(Oak Ridge National Laboratory) , 1998. - (ORNL ; ORNL/CP-102158; DE00004561)
レポート
CONTROL OF TEXTURE AND DEFECT STRUCTURE FOR HOT-FILAMENT-ASSISTED CVD (CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) DIAMOND FILMS / CLAUSING, R.E.// HEATHERLY, L.// SPECHT, E.D. (OAK RIDGE NATIONAL LAB., TN (USA))
, 1990. - (CONF ; CONF-900731-4)
FUNDAMENTAL STUDIES OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DIAMOND GROWTH PROCESSES / SHAW,R.W.//WHITTEN,W.B.//RAMSEY,J.M.//HEATHERLY,L.(OAK RIDGE NATIONAL LAB.,TN(UNITED STATES))
, 1991. - (CONF ; CONF-9107115-10)
TEXTURE DEVELOPMENT IN DIAMOND FILMS GROWN BY HOT FILAMENT CVD (CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) PROCESSES / CLAUSING, R.E.// HEATHERLY, L.// SPECHT, E.D.// MORE, K.L. (OAK RIDGE NATIONAL LAB., TN (USA))
, 1990. - (CONF ; CONF-9009310-1)
GROWTH MECHANISMS OF CVD DIAMOND FILMS DETERMINED BY A NOVEL TEM TECHNIQUE / WANG, Z.L.// BENTLEY, J.// CLAUSING, R.E.// HEATHERLY, L.// HORTON, L.L. (OAK RIDGE NATIONAL LAB., TN (USA))
, 1991. - (CONF ; CONF-910854-1)
ANALYSIS OF THE SURFACE STRUCTURE OF HFCVD DIAMOND FILMS / MEHTA, P.// FEIGERLE, C.S.// CLAUSING, R.E.// HEATHERLY, L.// THUNDAT, T. (OAK RIDGE NATIONAL LAB., TN (UNITED STATES))
, 1995. - (CONF ; CONF-950840-3)
Textures and morphologies of chemical vapor deposited (CVD) diamond / Clausing, R.E., Heatherly, L., Horton, L.L. [et al.]
TN (USA) : Oak Ridge National Lab. , 1991.09. - (CONF ; CONF-9109104-1; DE92001969)
HFCVD OF DIAMOND AT LOW SUBSTRATE AND LOW FILAMENT TEMPERATURES / TOLT, Z.L.// HEATHERLY, L.// CLAUSING, R.E.// SHAW, R.W.// FEIGERLE, C.S. (OAK RIDGE NATIONAL LAB., TN (UNITED STATES))
, 1995. - (CONF ; CONF-950840-5)
CR/SUB 2/NB-BASED ALLOY DEVELOPMENT / LIU, C.T.// TORTORELLI, P.F.// HORTON, J.A.// EASTON, D.S.// SCHNEIBEL, J.H.// HEATHERLY, L.// CARMICHAEL, C.A.// HOWELL, M.// WRIGHT, J.L. (OAK RIDGE NATIONAL LAB., TN (UNITED STATES))
, 1995. - (CONF ; CONF-9505204-7)